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Chiller高精度制冷循環器
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無錫冠亞專業研發生產低溫制冷循環器,制冷溫度范圍從-125度到-20度,采用電腦復疊型溫度控制器和PT100...
LT?-115℃~-60℃
詳細信息
無錫冠亞專業研發生產低溫制冷循環器,制冷溫度范圍從-125度到-20度,采用電腦復疊型溫度控制器和PT100...
LT?-80℃~-20℃
詳細信息
無錫冠亞專業研發生產低溫制冷循環器,制冷溫度范圍從-125度到-20度,采用電腦復疊型溫度控制器和PT100...
LT -60℃~-20℃
詳細信息
無錫冠亞專業研發生產低溫制冷循環器,制冷溫度范圍從-125度到-20度,采用電腦復疊型溫度控制器和PT100...
LT?-45℃~30℃
詳細信息
無錫冠亞專業生產單流體低溫冷凍機,制冷溫度范圍從-150度到-5度,可滿足不同制冷溫度需求。 生產車間...
低溫冷凍機 LC -25°C~ 5°C
詳細信息
無錫冠亞專業生產超低溫冷凍機,制冷溫度范圍從-150度到-5度,可滿足不同制冷溫度需求。 超低溫冷凍...
超低溫冷凍機 CDLJ?-110°C~ -50°C
詳細信息
無錫冠亞專業生產單流體低溫冷凍機,制冷溫度范圍從-150度到-5度,可滿足不同制冷溫度需求。 產品廣...
單流體低溫冷凍機 LD -80°C~ -30°C??
詳細信息
無錫冠亞專業生產工業冷凍機,制冷溫度范圍從-150度到-5度,可滿足不同制冷溫度需求。 工業冷凍機廣...
工業冷凍機 LJ -45°C~ -10°C
詳細信息
廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-80℃~80℃
詳細信息
廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-60℃~80℃
詳細信息
廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-40℃~80℃
詳細信息
廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-20℃~80℃
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -40℃~+100℃
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -25℃~+100℃
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -20℃~+100℃(一拖六)
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -40℃~+100℃(一拖六)
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -40℃~+100℃(一拖三)
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -40℃~+100℃(一拖二)
詳細信息
溫度變化的范圍通常從-40到100度(可擴展到150度),在控制溫度的同時,還可以選擇對流量或者壓力進行控...
KRY -40℃~+100℃(一拖二)
詳細信息
本項目自動控制系統應用計算機控制技術,可以使制藥生產的工藝操作和參數得到科學的、有效的、嚴格的監...
集散溫度控制系統
詳細信息
技術參數: 1、熱媒:飽和水蒸汽壓力:0.5MPa及以上,溫度:158.8℃及以上 2、熱水控制溫度 ?RT+10℃~1...
ST系列TCU溫控單元
詳細信息
無錫冠亞TCU溫控系統可實現-120度~300度的動態控溫,TCU溫控系統采用現有的熱能(如蒸汽、冷卻水及超低...
SR系列TCU控溫單元
詳細信息
無錫冠亞TCU溫控系統可實現-120度~300度的動態控溫,TCU溫控系統采用現有的熱能(如蒸汽、冷卻水及超低...
ZLF系列TCU控溫單元
詳細信息
無錫冠亞專業生產研發加熱系統,控溫范圍50度到300度,適用于制藥、化工企業各項工藝生產、實驗使用的需...
UC +50℃~+300℃
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