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制冷加熱控溫系統
制冷加熱控溫系統
廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-80℃~80℃
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廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-60℃~80℃
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廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-40℃~80℃
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廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所,適用于半導體芯...
LTS?-20℃~80℃
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無錫冠亞專業生產研發加熱系統,控溫范圍50度到300度,適用于制藥、化工企業各項工藝生產、實驗使用的需...
UC +50℃~+300℃
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無錫冠亞專業生產研發加熱系統,控溫范圍50度到300度,適用于制藥、化工企業各項工藝生產、實驗使用的需...
UC +50℃~+170℃
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無錫冠亞制冷加熱循環器可實現-45度到250度動態控溫,同時具備加熱制冷功能,帶2個LED顯示控制器,可以...
HRT -45℃~+250℃
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無錫冠亞制冷加熱循環器可實現-25度到200度動態控溫,同時具備加熱制冷功能,帶2個LED顯示控制器,可以...
HR -25℃~200℃
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針對微通道反應器持液量少換熱能力強、循環系統壓降大特點專門設計開發。優化溫度采樣及響應速度,專門設...
WTD -70°C~200°C
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針對微通道反應器持液量少換熱能力強、循環系統壓降大特點專門設計開發。優化溫度采樣及響應速度,專門設...
WTD -45°C~250°C?? 雙溫區
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針對微通道反應器持液量少換熱能力強、循環系統壓降大特點專門設計開發。優化溫度采樣及響應速度,專門設...
WTD -70°C~250°C
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高精度高低溫控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、...
TES -60℃~200℃
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高精度高低溫控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、...
TES -85℃~200℃
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高精度高低溫控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、...
TES?-45℃~250℃
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加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應...
UST +10℃~+300℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI?-100℃~+100℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI?-90℃~+250℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI -80℃~+250℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI -70℃~+250℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI -60℃~+250℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUDNI -45℃~+300℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
?SUNDI -45℃~+250℃
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制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI -25℃~+300℃
詳細信息
制冷加熱控溫系統的典型應用:高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層...
SUNDI -25℃~+200℃
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